CIF實驗室型等離子清洗機CPC-G系列

所屬分類：等離子清洗機

表面改性

等離子清洗機紫外臭氧清洗機

表面去膠

等離子去膠機

表面刻蝕

等離子刻蝕機

表面涂層

烤膠機勻膠機濺射鍍膜機

產品參數

CIF推出全新一代 CPC-G系列實驗室型等離子體清洗設備，改變傳統等離子體清洗設備設計理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低，性價比高，處理快速高效，特別適合于大學，科研院所和光電企業實驗室小批量中試生產。

產品詳情

產品特點：

◆ 7 寸彩色觸摸屏中英文互動操作界面，自動控制監測工藝參數狀態，20 個配方程序，工藝數據可存儲追溯。

◆ PLC 工控機控制整個清洗過程，手動、自動兩種工作模式。

◆ 石英真空艙，真空管路系統采用 316 不銹鋼材質，耐腐蝕無污染。

◆ 采用質量流量計，實現對氣體輸入精準控制，改變傳統浮子流量計控制氣體流量不準確問題。

◆ HEPA 高效過濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。

◆ 60 度傾角操作界面設計，符合人體功能學，操作方便，界面友好。

◆ 頂置真空艙，上開蓋設計，下壓式鉸鏈開關方式，開關蓋方便。

◆ 采用花灑式多孔進氣方式，改變傳統等離子清洗機單孔進氣不均勻問題。

◆ 上置式 360 度自由水平取放樣品托盤設計，符合人體功能學，操作更方便。

◆ 有效清洗面積大，可清洗最大直徑 8 吋硅片。

◆ 安全保護，艙門打開，自動關閉電源。