CIF等離子去膠機

所屬分類：等離子去膠機

表面改性

等離子清洗機紫外臭氧清洗機

表面去膠

等離子去膠機

表面刻蝕

等離子刻蝕機

表面涂層

烤膠機勻膠機濺射鍍膜機

產品參數

特別適合于大學，科研院所和微電子、半導體企業實驗室，對電路板、外延片、芯片、環氧基樹脂、MEMS制造過程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對基材進行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預處理等。

產品詳情

產品特點

◆ 7 寸彩色觸摸屏互動操作界面，自動控制監測工藝參數狀態，20 個配方程序，工藝數據可存儲追溯。

◆ PLC 工控機控制整個去膠過程，手動、自動兩種工作模式。

◆ 石英真空艙，全真空管路系統采用 316 不銹鋼材質，耐腐蝕無污染。

◆ 可選用石英舟，更適合晶元硅片去膠應用。

◆ 采用花灑式多孔道進氣方式，改變單孔進氣不均勻問題。

◆ 采用防腐數字流量計，實現對氣體輸入精準控制。標配雙路氣體輸送系統，可選多氣路氣體輸送系統，氣體分配均勻。可輸入氧氣、氬氣、氮氣、氫氣或混合氣等氣體。

◆ HEPA 高效過濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。

◆ 處理高效均勻，效率高，工藝重復性好。

◆ 樣品處理溫度低，無熱損傷和熱氧化。

◆ 安全保護，艙門打開，自動關閉電源，機器運行、停止提示。